日本DNK半導體行業用實驗和研究的手動批量曝光機產品特點

【資料簡介】

日本DNK半導體行業用實驗和研究的手動批量曝光機產品特點

 

MA-1200，MA-1400

• 這是一臺用于實驗和研究的手動批量曝光機，支持玻璃，晶圓，薄膜等。小批量生產的理想選擇。

• 可以選擇接觸曝光（軟/硬）和接近曝光。

• 支持z大500 mm x 500 mm的板。配備了光學系統，可根據應用和板子尺寸將超高壓汞燈（500W，1kW，2kW，3.5kW）與各種鏡子，特殊透鏡，聚光鏡等??進行z佳組合。

MA-1200A

• 手動批量曝光機非常適合于高混合，小批量生產，實驗和研究，并且可以進行穩定的自動間隙控制。

• 通過減少占用空間實現節省空間。

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MA-1200	MA-1400
面板尺寸		z大200 x 200mmø4“?ø6”	高達400 x 400mm
光源		超高壓汞燈：500W或1kW	超高壓汞燈：2kW或3.5kW
尺寸和重量	車身尺寸	寬12x深1100 x高1725毫米	寬1440 x深1590 x高1882毫米
	體重	400公斤	400kg（包括干凈的圍欄）
	光源重量	--	250公斤
選項		支持特殊的工作尺寸，例如干凈的圍欄，背面對準，硬接觸（真空接觸類型），自動對準，破裂的基板（需要咨詢）

MA-1200A
晶圓尺寸		ø2“?ø6”
光源		超高壓汞燈：500W或1kW
尺寸和重量	車身尺寸	寬850 x深1150 x高1665毫米
	重量	400公斤
選項		背面對齊，自動對齊，木板破裂，條形碼讀取器和LOG存儲支持（需要咨詢）