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*:照度儀
最近更新時間：2012-5-16
提 供 商：浙江安徽山東-上海將來實驗設(shè)備有限公司資料大小：25KB
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照度儀
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儀器簡介：
Q150T系列模塊化鍍膜系統(tǒng)_專為SEM、TEM及薄膜應(yīng)用設(shè)計的高真空濺射和蒸發(fā)鍍膜儀
Q150T系列：渦輪泵高真空鍍膜儀，可進行高性能精細(xì)顆粒鍍膜，適合場發(fā)射電鏡制樣應(yīng)用以及制作無定形碳覆形膜及TEM柵網(wǎng)支持膜。基于內(nèi)部安裝的渦輪分子泵抽真空平臺，Q150T具有三種版本/型號的鍍膜儀：濺射、蒸發(fā)鍍碳和濺射/蒸鍍。在運用科技整體成型的機箱上，設(shè)有彩色觸摸屏，可允許多用戶輸入和貯存鍍膜方案。在同一個易使用系統(tǒng)中，根據(jù)所選擇的配置，Q150T可以是一臺水準(zhǔn)的離子濺射鍍膜儀用于高分辨掃描電鏡（SEM）制樣，也可以是一臺適合SEM或透射電鏡（TEM）應(yīng)用的蒸發(fā)鍍碳儀，或者是一臺兼具濺射和蒸鍍兩功能的一體化鍍膜儀。Q150T具有快速濺射易氧化和不氧化金屬靶材的寬可選范圍的能力，使其也成為許多金屬薄膜研究及電極的應(yīng)用等材料科學(xué)領(lǐng)域的一個理想鍍膜平臺。
高真空性能
Q150T裝在一個堅固的特制整體成型機殼中，它容納了所有工作部件，包括空氣冷卻的渦輪分子泵。自動進氣控制保證了濺射期間*的真空條件。真空腔室?guī)в蟹辣踩帧?span lang="EN-US">Q150T含有的“真空閉鎖”允許在不用設(shè)備時維持腔室真空，從而改善真空性能。
Q150T系列三種型號
Q150TS：高分辨率磁控離子濺射鍍膜儀，可濺射易氧化及不氧化金屬（貴金屬）。可選各種濺射靶材，包括常用于場發(fā)射電鏡的銥和鉻。
Q150TE：高真空熱蒸發(fā)鍍碳儀，可制作高穩(wěn)定性的碳膜和表面覆形膜，對透射電鏡（TEM）的應(yīng)用非常理想。
Q150TES：集合了濺射和蒸鍍兩種沉積鍍膜功能的鍍膜系統(tǒng)，沉積鍍膜頭可在數(shù)秒內(nèi)快速更換，智能邏輯系統(tǒng)自動識別出所裝的鍍膜頭類型，并顯示相應(yīng)的操作設(shè)置。
上述每個型號還可選配一系列可選附件，如：金屬蒸鍍、碳絲蒸鍍、膜厚測量等。
觸摸屏控制
Q150T的操作核心為簡單的觸摸屏，即使zui不熟練的或偶而使用的操作者，儀器也能使其快速鍵入和貯存自己的處理數(shù)據(jù)。程序中已貯存了各種典型濺射及蒸發(fā)鍍膜的參數(shù)資料，以便提供進一步的易操作幫助。
鍍膜頭選項
具有一系列可互換、即插即用的鍍膜頭：
濺射頭，可使用易氧化及非氧化金屬兩大類寬范圍靶材；并可用另外的濺射頭來快速更換鍍膜材料（僅為TS及TES版本）
碳棒蒸發(fā)頭
碳絲蒸發(fā)頭
金屬蒸發(fā)/光闌清潔頭，包括向上蒸發(fā)或向下蒸發(fā)兩種蒸發(fā)方式（僅為TE和TES版本）
樣品臺選項
Q150T具有各種樣品臺以滿足大部分的應(yīng)用。所有的樣品臺更換容易，drop-in式樣（無需螺釘）并且高度可調(diào)（除旋轉(zhuǎn)行星臺）。標(biāo)準(zhǔn)配置為旋轉(zhuǎn)臺，可選：
可預(yù)設(shè)傾斜角度的旋轉(zhuǎn)臺
可變角度旋轉(zhuǎn)行星臺
用于
用于顯微鏡載玻片的樣品臺
其它選項
用于高樣品的加高腔室
膜厚監(jiān)測附件（FTM）
用于測量低和高真空的全范圍真空計
Q150T系列全自動高真空離子濺射/熱蒸發(fā)一體化鍍膜儀給用戶以類似傻瓜相機的簡單操作、*的鍍膜質(zhì)量和對熟手/新手都很理想的用戶界面，讓用戶真正領(lǐng)略的鍍膜品質(zhì)！
技術(shù)參數(shù)：
● 工作腔室：
● 觸摸屏全圖像用戶界面
● 樣品臺：標(biāo)配旋轉(zhuǎn)臺
● 真空系統(tǒng)：
渦輪分子泵：帶有空氣冷卻的渦輪分子泵
旋轉(zhuǎn)機械泵：雙級旋轉(zhuǎn)機械泵
● 濺射電流：0-150mA；可預(yù)設(shè)膜厚（需FTM選項）或使用內(nèi)置定時器
● 濺射時間：zui長60分鐘
● 碳蒸發(fā)：穩(wěn)定的無紋波直流電源控制的脈沖蒸發(fā)，確保源自碳棒或碳絲的可重復(fù)蒸碳。
● 金屬蒸發(fā)/光闌清潔頭：用于源自鎢絲籃或舟的金屬熱蒸發(fā)。
● 尺寸和重量：儀器機箱：
● 儀器總重量：
主要特點：
● 金屬濺射或碳蒸發(fā)或兩者兼?zhèn)洌阂惑w化設(shè)計，節(jié)約空間
● 精細(xì)顆粒濺射：高分辨率場發(fā)射掃描電鏡（FE-SEM）制樣的精細(xì)鍍膜應(yīng)用
● 渦輪分子泵高真空系統(tǒng)：允許不氧化貴金屬和易氧化其它金屬靶材的濺射鍍膜，大大拓寬了可濺射靶材范圍，既適合普通SEM、高分辨率FE-SEM鍍膜制樣應(yīng)用，也為許多薄膜應(yīng)用等材料科研領(lǐng)域提供理想的鍍膜平臺
● 全自動觸摸屏控制：快速數(shù)據(jù)輸入，簡單操作
● 可儲存多個客戶自定義鍍膜方案：對多用戶實驗室十分理想
● 與鍍膜過程和鍍膜材料相匹配的預(yù)編程自動真空控制
● 精細(xì)的厚度控制：使用膜厚監(jiān)控選項
● “智能”式系統(tǒng)識別：自動感知用戶所裝的插入式鍍膜頭的類型
● 高真空碳蒸鍍：對SEM和TEM鍍碳膜應(yīng)用非常理想
● 蒸發(fā)電流波形控制
● Drop-in落入式快換樣品臺（標(biāo)配旋轉(zhuǎn)臺）
● 真空閉鎖功能：可讓工作腔室處于真空狀態(tài)，改善后續(xù)真空效果，或在真空條件下保存樣品
● 鍍制厚膜能力：一次真空條件下的濺射時間可長達60分鐘（材料科研領(lǐng)域的應(yīng)用）
● 人體工程學(xué)設(shè)計的整體成型機殼：易維護和易拆裝
● 帶有本地FTP服務(wù)器連接的以太網(wǎng)端口：簡單的程序更新
● 設(shè)有功率因素補償，有效利用電能，降低運行成本
● 符合當(dāng)前電器法規(guī)（CE認(rèn)證）
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