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6濕式氧化光化學高級氧化裝置多方位滿足工藝
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安力斯亮相2022北京微電子國際研討會暨IC WORLD大會
12月28日，2022北京微電子國際研討會暨IC WORLD大會在北京經開區舉行。本次大會以“蓄勢起航 煥然一芯”為主題，安力斯與上百家半導體產業鏈上下游企業受邀參會，并現場展示我司的最新產品和先進的技術研究成果。
展會現場
01EX-UPW-TOC降解系統
EX-UPW-TOC產品系列是一款適用于超純水 (UPW) 制備中對總有機碳 (TOC) 進行降解的先進可靠系統。通過撬裝集成、更高185nm穿透率、實時在線的紫外線劑量監測、本地遠程的智能控制系統，實現嚴格、高效的總有機碳 (TOC) 降解。
02UV消毒紫外線系統
運用CFD流體模擬,進行細節模擬設計，提高殺菌效率，可本地與遠程操控。采用先進的加工工藝，體積小滿足現場多樣化安裝形式，具有易安裝、維護簡便等特點。
03超純高濃度臭氧發生器
MOC-8400該系列臭氧發生器采用微流體平臺設計和高精度機加工工藝，具備出色的穩定性。可廣泛應用于半導體薄膜沉積工藝，如ALD、CVD、ALE，以及其它半導體芯片、液晶面板、光伏產品等生產制造過程。
安力斯作為一家專業提供紫外線技術產品與解決方案的高新技術企業、北京市“專精特新”企業，在天津寶坻擁有30000平米的生產基地、湖南衡陽有機械生產加工設備，確保產品產能、把握產品品控。是符合工信部《環保裝備制造業規范條件》企業。
本次大會同期舉辦學術會議和博覽會，著力打造三大特色的行業盛會。安力斯以先進的水處理核心設備及核心部件研發、制造、技術服務團隊，持續助力半導體行業發展，共同見證和推動中國集成電路制造的崛起。
