制藥廠廢氣處理設備等離子體具有導電和受電磁影響的許多方面與固體、液體和氣體不同，因此又有人把它稱為物質的第四種狀態。根據狀態、溫度和離子密度，等離子體通常可以分為高溫等離子體和低溫等離子體（包子體和冷等離子體）。其中高溫等離子體的電離度接近1，各種粒子溫度幾乎相同系處于熱力學平衡狀態，它主要應用在受控熱核反應研究方面。而低溫等離子體則學非平衡狀態，各種粒子溫度并不相同。其中電子溫度( Te)≥離子溫度(Ti)，可達104K以上，而其離子和中性粒子的溫度卻可低到300～500K。一般氣體放電子體屬于低溫等離子體。

制藥廠廢氣處理設備光催化是常溫深度反應技術。光催化氧化可在室溫下將水、空氣和土壤中有機污染物*氧化成無毒無害的產物，而傳統的高溫焚燒技術則需要在*的溫度下才可將污染物摧毀，即使用常規的催化、氧化方法亦需要高溫。

特點：

① 采用單級或多級串聯洗滌，對污染物去除*，去除效率高。

② 處理高濃度惡臭廢氣具有明顯優勢，運行穩定。

③ 具有啟動速度快、可間歇運行、耐沖擊負荷強、

受溫度影響小、運行穩定等特點。

④ 自動化程度高，占地面積小。

Wintop-CW化學洗滌除臭設備適用于污水處理廠、制藥廠、化工廠等具有堿性或酸性且濃度比較高的尾氣治理。

① 活性炭除臭設備采取切線出風、環狀過濾、中間進風、上不加料、下部卸料的結構，克服了傳統的活性炭過濾器過濾阻力大、面積小、占地面積大、設備投資高、更換活性炭困難等缺陷，使活性炭過濾設備結構設計近乎于*。

② 活性炭除臭設備是等體積傳統活性炭過濾設備過濾面積的2~4倍，阻力只有傳統的1/2~1/3。環形活性炭凈化裝置由于采用切線出風，其方向不受場地條件限制可任意擺放，抽風機和設備對接極易，排放管可直接固定于設備上，系統整齊合理。

廢氣的產生部位比較多，并且分散在車間中，因此在處理廢氣之前必須先把廢氣收集起來，所以需要集氣系統對其進行收集后統一進行處理。