上海伯東代理德國普發 Pfeiffer 渦輪分子泵 Hipace 700 成功應用于寧波某研究所磁控濺射（Megnetron Sputtering）系統.寧波某研究所磁控濺射（Megnetron Sputtering）系統用于光刻膠片上濺金屬鉻,銅,鈦.其中材料生長腔工作真空度要求 < E-7 hPa,能做到4英寸片,3靶位,可實現編程鍍膜.材料生長腔對渦輪分子泵的要求較高,老師在考量了德國普發 Pfeiffer Hipace 700 渦輪分子泵和愛德華 Edwards STP603 分子泵后,因為對分子泵的壓縮比要求較高,zui終選擇了德國普發 Pfeiffer 分子泵.
-------寧波某研究所磁控濺射系統加裝 Pfeiffer 渦輪分子泵-----
德國普發 Pfeiffer 渦輪分子泵 Hipace 700 主要優點：
1.高壓縮比 >1x1011
2.使用壽命長
3.渦輪分子泵真空度高且穩定 < E-7 hPa
4.大抽速 (N2) 685 l/s
5.與愛德華 Edwards STP603 相比,更大壓縮比,真空度高且更穩定
值得一提的是,德國普發 Pfeiffer 渦輪分子泵廣泛應用于的磁控濺射廠商,如美國 SVTA,芬蘭 DCA,北京匯德信等.
寧波某研究所磁控濺射（Megnetron Sputtering）系統,同時使用上海伯東德國普發 Pfeiffer 真空規 PKR 251 測量腔體真空度,美國 HVA6'S 真空閥門和德國普發 Pfeiffer 氦質譜檢漏儀 ASM 340 檢漏腔體.
上海伯東德國普發 Pfeiffer 渦輪分子泵 Hipace 系列產品抽速范圍 10 l/s 至 2300 l/s,轉子速率可達90000rpm。更有渦輪分子泵組 Hicube 系列和全磁浮渦輪分子泵 ATH 系列供選擇已滿足不同應用。Pfeiffer 渦輪分子泵更獲得歐洲工業設計zui高獎“紅點獎”.
