主要應(yīng)用領(lǐng)域：

1． 研究電化學(xué)機(jī)理

2． 生物技術(shù)

3． 物質(zhì)的定性定量分析

4． 常規(guī)電化學(xué)測(cè)試

5． 納米科學(xué)研究

6． 傳感器研究

7． 金屬腐蝕研究

8． 電池研究

9． 電鍍研究

主要技術(shù)指標(biāo)：

恒電位儀	恒電流儀
槽壓：±15V	靈敏度1×10-14A
電位控制范圍：±12.8V	電流控制范圍±250mA
電位上升時(shí)間﹤0.25微秒	輸入阻抗：>1013W//<10pF
脈沖電流：±250mA	設(shè)置脈沖電流數(shù)：8個(gè)
D/A轉(zhuǎn)換速率18bit	A/D轉(zhuǎn)換速率24bit
電流測(cè)量分辨率﹤0.01pA	量程：5nA-250mA  9檔
電位更新速率：5MHz	CV的最小電位增量：0.1mV
CV 和LSV掃描速度0.1～10000mV/s	電位掃描時(shí)電位增量：0.1mV@200mV/mS
DPV和NPV脈沖寬度2～5000ms	SWV頻率1～100KHz
自動(dòng)和手動(dòng)電流、電位零位調(diào)整	環(huán)境溫度：5—400C
運(yùn)行時(shí)間：0--100，000s	通訊接口：RS232與USB互換
儀器尺寸：36*30*13	電位和電流測(cè)量低通濾波器，自動(dòng)和手動(dòng)設(shè)置

主要測(cè)量技術(shù):

線性掃描伏安法 (LSV)	恒電位電解電流-時(shí)間曲線（I-T）
循環(huán)伏安法 (CV)	恒電位電解電量-時(shí)間曲線（Q-T）
線性掃描溶出伏安法 (LSV)	恒電位溶出電流-時(shí)間曲線（I-T）
階梯伏安法 (SCV)	恒電位溶出電量-時(shí)間曲線（Q-T）
階梯循環(huán)伏安法 (SCV)	單電位階躍計(jì)時(shí)電流法（I-T）
階梯溶出伏安法 (SCV)	多電位階躍計(jì)時(shí)電流法（I-T）
方波伏安法 (SWV)	單電位階躍計(jì)時(shí)電量法（Q-T）
方波循環(huán)伏安法 (SWV)	多電位階躍計(jì)時(shí)電量法（Q-T）
方波溶出伏安法 (SWV)	電位溶出E-T曲線
常規(guī)脈沖伏安法 (NPV)	開路電勢(shì)E-T曲線
差示脈沖伏安法 (DPV)	單電流階躍計(jì)時(shí)電位法
差示脈沖溶出伏安法 (DPV)	多電流階躍計(jì)時(shí)電位法
差示常規(guī)脈沖伏安法 (DNPV)	控制電流E-T曲線
塔菲爾圖 (TAFEL)